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超纯水分析

对半导体制造中的超纯水进行准确、可靠且高效的分析

确保半导体制造过程中所用的超纯水污染物含量尽可能低是一项重要且艰巨的任务。只有能够准确高效地检测痕量杂质的精密分析系统才能有效完成任务,且不会对产量产生显著影响。

Agilent 7900 ICP-MS 和 8800 ICP-MS/MS 系统可在最低检测限提供可靠且可重现的分析。这些仪器同样具备一系列样品自动化和数据处理工具,可提高分析效率,并且在整个硅晶片清洗和其他加工过程中实现经济有效的超纯水监测。所有这些仪器同样可获得来自安捷伦资深工程师们提供的各种卓越的技术支持。